円盤を小麦粉層上を滑走させた際の、円盤の速度の時間変化の一例を図7に示した。

これを小麦粉を敷かずに滑走させた場合（図8）と比較すると、小麦粉を敷かない場合には速度変化が一定、すなわち動摩擦係数が一定であるのに対して、小麦粉を敷いた場合、円盤の速度変化は一定していないことが分かる。おおまかな傾向として、

1. 発射直後に認められる速度変化の割合が一定しない段階
2. 滑走中盤に認められる速度変化が比較的低い値で一定する段階
3. 停止直前に認められる速度変化が比較的高い値で一定する段階

の3段階に区別でき、主要な結果 1に示した滑走痕の変化にほぼ一致する。よって以降では、速度変化の段階的変化と滑走痕の変化を併せて、滑走状態A、B、Cと呼ぶ。